据台媒报道，美光CEO Sanjay Mehrotra日前表示，目前规划2026年在日本广岛生产1γ DRAM，在此之前，会先在台湾工厂量产同款产品。

Sanjay Mehrotra 5月22日在日本广岛宣布，将在台湾地区与日本，引进极紫外光（EUV）曝光设备量产下一代的1γ DRAM。

其中，台湾工厂将于2025年开始生产，日本广岛工厂将于2026年开始生产，台湾工厂生产1γ DRAM的进度比日本早1年。这与2022年底台湾美光称美光台中厂预计2024年导入1γ制程EUV设备的说法相符。

Mehrotra表示，EUV曝光设备要引进广岛工厂，目前正在取得官方许可阶段，预计2024年可完成审核，2025年引进广岛工厂，2026年开始生产。

Mehrotra证实，引进的设备将设置在既有厂房中，不会另建新厂。但引进EUV曝光设备的数量、机种是否为ASML的最新款曝光机种等其他细节，目前尚未透露。未来美光在广岛工厂是否会持续扩充1γ DRAM产能，目前也还没有任何预定。