三井化学将量产光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻机
AVA 2024-06-19 11:37
日本三井化学近日宣布，将开始量产半导体最尖端光刻机的光掩模防护膜新品，计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线，计划年产能力为5000张，生产线预计于2025年12月完工。可支持ASML将推出的下一代光刻机。
三井化学最新光掩模防护膜（pellicle）用于保护光掩模的清洁，需要具备高透明度和耐用性。2023年，三井化学与比利时的微电子研究中心imec携手合作，致力于推动极紫外（EUV）技术下碳纳米管制成的pellicle的商业化进程。
