全球领先的半导体公司三星电子近日宣布，与新思科技（Synopsys）达成合作，共同推进2nm工艺技术的量产准备。新思科技的EDA设计工具和IP解决方案已成功通过三星2nm GAA工艺的认证，标志着双方在先进半导体工艺领域的合作迈出了重要一步。

新思科技提供的EDA套件将显著改善三星2nm GAA工艺节点的模拟设计迁移、PPA（面积效率、性能和能效）以及生产率。通过利用人工智能技术，新思科技帮助三星在2nm工艺上实现了更高的面积效率、性能和能效表现。

此外，新思科技的DSO.ai和ASO.ai工具成功实现了从FinFET到GAA架构的迁移，确保客户能够无缝地将现有FinFET芯片设计转移到新的2nm GAA工艺上。这不仅提高了设计效率，也为芯片公司开发新的芯片设计技术提供了强大支持。

三星表示，其2nm工艺（SF2）在性能、功耗和密度上预计将比前代工艺提高20%。新思科技的UCIe IP已被应用于三星SF2和SF4x工艺节点的生产，同时，该公司的DTCO解决方案也计划用于优化三星未来的1.4nm工艺节点（SF1.4）。