日本半导体设备大厂佳能透露，新推出的「纳米压印(Nano-imprint Lithography；NIL)」微影设备售价仅ASML最佳机台的几分之一。

据外媒报道，佳能执行长御手洗富士夫(Fujio Mitarai)受访时表示，最新NIL技术让小型半导体厂也有机会生产目前几乎全由大企业寡占的先进芯片。「机台售价将比ASML的极紫外光(EUV)微影设备少一位数(one digit less)。」不过，最终价位尚未敲定。

由于纳米压印技术需使用软性材质的光刻胶材料，适合使用在规则性结构如DRAM和NAND FLASH，而逻辑芯片只有少部分的结构可以使用，故纳米压印技术仍无法完全取代EUV微缩技术。但佳能相信该设备能创造新的机会和需求，已有许多客户前来洽询。

但御手洗表示，佳能也许无法将设备卖至中国。「就我理解，14纳米以下的技术都是被禁止的，因此我不认为可以贩售。」