随着各大半导体厂商加速引入EUV（极紫外）工艺，相关材料市场有望进入成熟期。EUV 工艺光刻胶（PR）市场预计将翻两番，从 2021 年的 5000 万美元增长至 2025 年的 2 亿美元。

光刻胶是一种化学材料，在半导体晶片上绘制半导体电路的曝光过程是必不可少的。它具有响应光引起化学变化的特性，因此可以根据光线照射的区域创建特定的图案。根据曝光过程中使用的光的波长，分为氟化氪（KrF）、ArF（氟化氩）和用于EUV的PR。

其中，EUV光刻胶与其他光刻胶相比，市场规模非常小。EUV是一种尖端工艺技术，与现有光源相比，有利于实现半导体超精细电路，长期以来一直没有应用于大规模生产。大约在 2019 年左右，主要代工厂三星电子和台积电开始量产基于 EUV 工艺的芯片。

但近期，随着多家半导体厂商的投资，EUV工艺的引入正在加速，相关材料市场也有望呈现高增长。EUV 的光刻胶市场规模预计将从 2021 年的 5000 亿美元到 2025 年超过 2 亿美元。

新开发的EUV光刻胶包括金属氧化物光刻胶和干式光刻胶。与传统的基于聚合物的抗蚀剂相比，金属氧化物抗蚀剂具有出色的光吸收性，并且能够进行精确蚀刻。抗蚀剂比传统的湿法抗蚀剂具有更高的分辨率，并且可以显著降低生产成本。

各大光刻胶厂商也在通过联合研发和并购增强市场竞争力。日本JSR作为光刻胶市场的领头羊，继去年收购了美国金属氧化物光刻胶公司Inpria后，今年决定与SK海力士推进联合研发。据了解，三星电子也在继续推动Inpria光刻胶的引进。韩国东进半导体也准备将EUV光刻胶商业化。