据日经新闻报导，日本信越化学将斥资 300 亿日圆 (约合2.85亿美元)，在日本和台湾地区新建工厂，以扩大高阶芯片制造半导体关键材料的供应。

位于台湾云林的工厂将先完成，预计2021年2月开始量产，届时信越可在台湾地区生产可与极紫外线 (EUV) 光刻技术兼容的光阻剂，以满足台积电等苹果供应链客户的需求。日本方面，信越新潟县的直江厂预计将在2022年2月开始运作。

总计信越光阻剂台湾工厂产能将增加 50%，直江厂则提高 20%，同时也会陆续招聘新员工。

除满足台厂客户需求外，信越扩充产能后也将为韩国、中国大陆和其他市场的客户提供服务。

信越化学的光阻剂以高灵敏度与有效提高制成效率而闻名，除光阻剂外，信越还提供晶圆等其他半导体材料以及帮助客户解决生产问题等服务方案。

目前竞争对手方面， JSR 和 Tokyo Ohka Kogyo(TOK) 也在日本和海外生产 EUV 光阻剂，住友化学以及 Fujifilm 也正虎视眈眈。

光阻剂是半导体供应链关键材料，随着半导体运用日益广泛，研究机构 Fuji Keizai 预估，2019 -2024 年间，光阻剂市场将成长 60％，达到约 2500 亿日圆（约合24亿美元）市场规模。全球光阻剂市场日本厂商占据了约80% 市占，仅信越化学就握有约 20-30% 的市占。