据韩媒报道，三星计划在今年年底或2025年第一季度引入其首台High-NA EUV光刻机「EXE:5000」，预计该设备将用于晶圆代工业务。

目前，ASML仅制造了8台EXE:5000设备，其中多台已经被英特尔公司预定。由于High-NA EUV设备需要处理13.5纳米波长的EUV光，其安装过程相当复杂和耗时。即便三星能在年底引进High-NA EUV设备，完成设备的安装和调试也需要较长时间，预计最快也要到2025年上半年才能开始实际的晶圆生产。

另据消息称，三星正与日本设备厂Lasertech合作开发High-NA光罩检测设备。使用High-NA EUV检测半导体光罩后，对比度较现有EUV可改善30%以上。

三星还在积极与新思科技、日本光阻剂制造商JSR、东京电子等公司在High-NA EUV技术领域进行合作，为2027年该技术的商业化应用做准备。