周边资讯

返回 主页

内容开始

三井化学将量产光刻薄膜新品,支持ASML下一代光刻机

AVA 2024-06-19 11:37

日本三井化学近日宣布,将开始量产半导体最尖端光刻机的光掩模防护膜新品,计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线,计划年产能力为5000张,生产线预计于2025年12月完工。可支持ASML将推出的下一代光刻机。

三井化学最新光掩模防护膜(pellicle)用于保护光掩模的清洁,需要具备高透明度和耐用性。2023年,三井化学与比利时的微电子研究中心imec携手合作,致力于推动极紫外(EUV)技术下碳纳米管制成的pellicle的商业化进程。

更多资讯

top

深圳市闪存市场资讯有限公司 客服
Copyright©2008-2024 CFM闪存市场 版权所有

本周存储现货行情整体较为稳定,行业SSD和内存条询单积极性提高 打开APP